超精拋光工藝的原理
2024/03/25
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超精拋光工藝的原理


超精拋光 / 超精密拋光,為物理拋光的一種方式;是指採用特製的磨具,對光學零件、石英振 子、玻璃等各種材質,在含有磨料的拋光液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉運動。 其特點在於應用拋光法加工出高精度、高光滑度、與低表面破壞層之工件。利用該技術可以達 到 Ra0.008μm 的表面粗糙度,是各種拋光方法中最高的。光學鏡片模具時常採用此種方法。

超精拋光的特點

  • 可實現自由曲面的 超精拋光
  • 在顯微鏡下 100 倍表面依舊無拋痕
  • 可以有效的降低表面粗糙度並且控制Ra值
  • 有效的降低波紋度(Wa)
  • 可精準維持工件拋光後面型精良
  • 適用於各種材質,例如:無電解鎳 、銅、鋁、 鎢鋼以及模具鋼等

超精拋光與拋光的區別


拋光是使用物理機械、化學藥品等方法,從而讓物體表面粗糙度降低,達到修飾效果的工藝。拋光技術主要運用在精密機械、光學工業等領域。拋光的作用不在於提高工件尺寸或幾何形狀精度,而是以得到光滑表面、鏡面光澤為目的。從而得知二者之間最大的差異是超精拋光除了有更好的表面粗糙度外,表面不會產生拋痕或波紋,對於精度要求高,外觀有低表面破壞層的產品,都可選擇超精拋光來進行最終加工。

超精拋光前後的數據比較


表3-3-1是超精拋光前後的數據比較,可看出超精拋光前的數據已經有一定水準,經過超精拋光後 數據更完美,但也可以從數據中得知,要達到更完美的表面粗糙度,產品在超精拋光前的加工完成 表面,也是相當重要的,前段工序完成品的表面粗糙度數據越好,經過超精拋光產品會更優化。

超精拋光
Ra 0.085 0.026
RMax 1.050 0.320
Ry 0.855 0.264
Rz 0.912 0.212

表3-3-1

單位:μm

檢查設備:東京精密表面粗度測定儀